1.硬質氧化特性：硬質氧化是一種電化學處理方式，在純鋁或鋁合金材料上面形成一極硬、耐高溫、耐磨、有高電阻性、耐腐蝕的硬氧化膜。此一極高之表面硬度，配合鋁合金本身輕、機械加工容易、低成本的特性，廣泛應用于各種工業及軍事用途上，此值我國工業升級之際，更是精密工業不可或缺的一環。

　　2． 硬質氧化硬度：指膜層之硬度，膜層厚度（Thickness）指Build up和Penetration兩部份。T=1/2Build up+1/2Penetration 。硬度之最低標準為B.S.5599規定HRC36以上（約HV350）接近底材部份可超過HRC60(HV700)以上。

　　3． 硬質氧化耐磨性：以Taber Abraser CS-17 1000g 負載，鋁合金硬化處理之耐磨性遠優于硬鉻電鍍及其它之硬化鋼。

　　4． 硬質氧化尺寸精確：膜層厚度一般為50±5µm ,元件單面尺寸約增加25µm，對于較精細公差及特殊厚度要求，需于圖面上特別注明。

　　5．硬質氧化 抗蝕性：經封孔，鹽霧試驗（ASTM117規格）超過5000小時無腐蝕現象發生。

　　6.合金材料適合性：適用于所有鋁合金，包括1000純鋁系（1050、1100）、2000鋁銅系（2014）、3000鋁錳系、5000鋁鎂系。6000鋁鎂矽系（6061、6063）7000鋁鋅系（7050）及鑄造鋁合金514.2、A514.2、518.2、ADC.5 ADC.6 等。

　　7.耐電壓（Breakdown Voltage）：達1500VDC以上。

　　8.高度電阻性：于20度C 為4Ⅹ10.15歐姆cm2/cm,可作為良好之絕緣體。

　　9.耐熱性：膜層熔點達2050度C，短時間可保護鋁材在高溫中免受損害。

　　10.低摩擦系數：磨光后的表面，摩控系數可低至0.095，因此各種軍械及民用裝備滑軌，均應用此技術。

　　11.氧化膜的結合力：硬質氧化膜的形式是有一半的膜在鋁的內部一半長出來，與鋁基體金屬的結合力很強，很難用機械方法將它們分離，即使膜層隨基體彎曲直至破裂，膜層與基體金屬仍保持良好的結合。

　　12.氧化膜結構的多孔性：硬質氧化氧化膜具有多孔的蜂窩狀結構，可使膜層對各種有機物、樹脂、無機物、染料及油漆等表現出良好的吸附能力，可作為涂鍍層的底層，也可將氧化膜染成各種不同的顏色（硬質氧化膜，只可染黑色）提高金屬的裝飾效果。

　　制作硬質氧化注意事項：

　　1.制品上所有棱角應倒成直徑不小于0.5mm的圓弧,不允許有銳角及毛刺以避免電流集中造成局部過熱、變脆、斷裂.

　　2.不要求厚膜部位用過氯乙烯膠等加以保護,螺紋孔,定位銷孔用塑料或膠皮堵塞.

　　3.制品經硬質氧化后,尺寸增加約為膜厚的一半(單邊)所以對尺寸要求嚴格的制品,應根據膜厚確定其陽極氧化前的尺寸余量 .